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本发明提供一种单层相位差膜的制造方法，其包括以下工序：(I)将聚合物的单层相位差膜形成用聚合物组合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜的工序，所述聚合物在侧链上具有通过紫外线进行光反应的光反应性部位；(II)第一曝光工序，其中，对所述涂膜照射第一...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

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