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本申请公开了一种蒸镀源和蒸镀装置,所述蒸镀源包括坩埚本体和内压板,所述坩埚本体设有朝向待蒸镀基板表面的出口;所述内压板可移动地设置在所述坩埚本体内以与所述坩埚本体形成容置腔,所述内压板开设有蒸镀孔。上述蒸镀源在真空蒸镀过程中,蒸镀材料蒸镀时...该专利属于成都京东方光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种蒸镀源和蒸镀装置,所述蒸镀源包括坩埚本体和内压板,所述坩埚本体设有朝向待蒸镀基板表面的出口;所述内压板可移动地设置在所述坩埚本体内以与所述坩埚本体形成容置腔,所述内压板开设有蒸镀孔。上述蒸镀源在真空蒸镀过程中,蒸镀材料蒸镀时...