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本实用新型提供了一种真空样品舱及显微镜,涉及电子显微镜技术领域,解决了现有技术中在样品分析时存在的样品氧化、污染、裂片风险的问题。第一真空腔室开设有第一开口;第二真空腔室开设有第二开口,第二真空腔室与第一真空腔室密封连接并通过第二开口和第一...该专利属于张家港市集成电路产业发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过张家港市集成电路产业发展有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供了一种真空样品舱及显微镜,涉及电子显微镜技术领域,解决了现有技术中在样品分析时存在的样品氧化、污染、裂片风险的问题。第一真空腔室开设有第一开口;第二真空腔室开设有第二开口,第二真空腔室与第一真空腔室密封连接并通过第二开口和第一...