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本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种支架和原子层沉积镀膜设备。该支架应用于原子层沉积镀膜设备，该支架用于承载待镀膜的工件。在镀膜过程中，所述支架能够转动。该支架包括多个承载单元和导流组件。其中，承载单元用于承载工件，多个承载单元沿竖直方...
该专利属于光驰半导体设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。

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