温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种改善内表面沉积膜层膜基结合强度及提高沉积膜层均匀性的工艺、装置和方法。装置特征是：设计出一套容器内壁ＤＬＣ膜制备及生产装置，包括高频与偏压复合电源，真空反应室，集磁装置等。在生产过程中，通过向所述的外端电极（３）施加高频，在所...
该专利属于张海涛所有，仅供学习研究参考，未经过张海涛授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。