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本发明属于化学合成及光刻材料领域，具体涉及一种光刻胶主体树脂合成中间体及其制备方法。本发明中的光刻胶主体树脂为193 nm的光刻胶主体树脂，所述的光刻胶主体树脂合成中间体为金刚烷衍生物，即3
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该专利属于沾化大荣化工科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沾化大荣化工科技有限公司授权不得商用。

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