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对向靶反应溅射多晶四氧化三铁薄膜的设备及操作方法技术
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下载对向靶反应溅射多晶四氧化三铁薄膜的设备及操作方法的技术资料
文档序号:3833450
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本发明涉及一种对向靶反应溅射多晶四氧化三铁薄膜的制备方法,是采用中科院沈阳科学仪器研制中心生产的DPS-Ⅲ型超高真空对向靶磁控溅射镀膜机。本发明采用对向靶直流反应磁控溅射的技术,通过控制氧气和氩气的流量比达到控制真空室中的氧气分压的目的,并...
该专利属于天津大学所有,仅供学习研究参考,未经过天津大学授权不得商用。
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