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本发明提供了一种光刻版及其制造方法，其中，所述光刻版包括基板、设置于所述基板的表面的光刻版图形以及设置于所述基板上的保护层，所述保护层覆盖所述基板中设置有所述光刻版图形的区域，且所述保护层的透光率为95％～100％。本发明通过形成直接覆盖基...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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