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一种半导体结构的形成方法，包括，提供晶圆，所述晶圆包括中间区域和环绕所述中间区域的边缘区域，在所述晶圆的中间区域和边缘区域上形成目标图层后，在所述目标图层上形成掩膜图形层，且所述边缘区域上的掩膜图形层的厚度小于所述中间区域上的掩膜图形层的厚...
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