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本发明实施例提供一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法，该系统包括：真空卷绕镀膜装置，其包括放卷机构、用于对基膜进行蒸镀的蒸发机构和收卷机构；温度测定装置，用于测量所述蒸发机构的温度值；面阻测试装置，用于测量所述基膜的面阻值；控制装置，用于根据...
该专利属于重庆金美新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆金美新材料科技有限公司授权不得商用。

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