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本公开提供一种半导体结构的制备方法。该制备方法包括形成一第一位元线以及一第二位元线在一基底上；形成一图案化层在该第一位元线与该第二位元线之间，其中该图案化层覆盖该基底并围绕该第一位元线的一下部以及该第二位元线的一下部；形成一共形层在该图案化...
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