温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，涉及半导体生产环境管理技术领域，该方法包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标；得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；得到多个生产区域；进行相关向量识别，得到静态相关向量...
该专利属于苏州鸿安机械股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州鸿安机械股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。