一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统技术方案

本发明专利技术提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，涉及半导体生产环境管理技术领域，该方法包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标；得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；得到多个生产区域；进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵，解决现有技术中存由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题，达到提高清洁管理效率和准确性的技术效果。性的技术效果。性的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统


[0001]本专利技术涉及半导体生产环境管理
，具体涉及一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统。

技术介绍

[0002]在科技高速发展的今天，半导体对于经济发展和居民生活都非常重要。大部分的电子产品当中的核心单元，如集成电路，都和半导体有着重要的关联。目前，传统方法中对半导体生产环境的清洁管理主要依靠人工进行管理调整，其智能化程度较低，且由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法及系统，用以解决现有技术中存在由于对不同生产流程的数据分析不够详细，导致存在清洁管理效率低的技术问题。
[0004]根据本专利技术的第一方面，提供了一种半导体生产环境的监测清洁管理方法，包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；根据所述车间静本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体生产环境的监测清洁管理方法，其特征在于，所述方法包括：获取生产目标半导体的车间静态环境指标和车间动态环境指标，其中，所述车间静态环境指标为车间生产过程中参数变化接近静态的指标，所述车间动态环境指标为车间生产过程中参数变化处于动态的指标；根据所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标生成矩阵，得到静态指标矩阵和动态指标矩阵；通过对所述目标半导体的生产车间进行区域划分，得到多个生产区域，其中，每个生产区域中对应一个生产节点；通过对所述多个生产区域与所述静态指标矩阵和所述动态指标矩阵进行相关向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量；对所述静态相关向量和动态相关向量进行管理调参，输出调参结果，其中，所述调参结果为管理等级的参数调节结果；按照所述调参结果输出所述多个生产区域分别对应的洁净管理指标矩阵。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：对所述多个生产区域中各个生产区域的半导体生产过程进行数据监测，得到监测数据集；按照所述监测数据集进行指标识别，得到监测指标矩阵；根据所述监测指标矩阵进行变化向量提取，得到变化向量；基于所述变化向量对所述车间静态环境指标和所述车间动态环境指标进行向量识别，得到静态相关向量和动态相关向量。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：以所述静态相关向量和所述动态相关向量，生成静态相关矩阵和动态相关矩阵；其中，每个生产区域均包括一组静态相关矩阵和一组动态相关矩阵，所述静态相关矩阵为所述静态指标矩阵的子集，所述动态相关矩阵为所述动态指标矩阵的子集；基于所述静态相关矩阵和所述动态相关矩阵进行识别，输出调参系数，基于所述调参系数对各个生产区域进行管理调参。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：获取所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的N个向量，其中，N为大于0的正整数；获取所述动态相关矩阵中大于等于预设相关度的M个向量，其中，M为大于0的正整数；基于所述N个向量和所述M个向量进行计算，输出所述调参系数。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述调参系数的计算公式如下：；其中，表征调参系数；N表征所述静态相关矩阵中大于等于预设相关度的向量数；M表征所述动态相关矩...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘大庆，盘云，彭海波，石益强，吕林杰，
申请(专利权)人：苏州鸿安机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：