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株式会社东进世美肯
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新型化合物、抗蚀剂下层膜组合物以及抗蚀剂下层膜制造技术
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下载新型化合物、抗蚀剂下层膜组合物以及抗蚀剂下层膜的技术资料
文档序号:38201730
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提供一种耐蚀刻性、间隙填充特性以及耐热性得到改善的化合物。本发明的一实施例提供一种包含以下述结构式1表示的重复单元的化合物:[结构式1][结构式1][结构式1][结构式1]
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该专利属于株式会社东进世美肯所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东进世美肯授权不得商用。
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