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本申请提供的一种掩模版关键尺寸数据分析处理方法及装置，通过对采集获取到掩模版特征图形利用量测设备进行量测，得到该掩模版特征图形在不同灰阶阈值下的关键尺寸数据后，利用同一特征图形关键尺寸数据之间的差值，确定同一特征图形的有效灰阶阈值和光刻胶形...
该专利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司授权不得商用。

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