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本公开提供了一种基板处理设备，包括：喷嘴单元，被配置成向基板排出处理液；管道，连接到喷嘴单元和供应处理液的处理液供应单元；电荷量控制单元，设置在管道处，包括带正电荷或负电荷的过滤单元，并且包括控制阀和电源单元中的至少一个，控制阀控制穿过过滤...
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