温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明属于微机电系统的技术领域，具体涉及深槽衬底图形化的制备方法。所述的深槽衬底图形化的制备方法，包括以下步骤：提供一种衬底；衬底上形成一种硬掩膜；在所述硬掩膜层上形成一种光刻胶层并曝光、显影，暴露部分硬掩膜层；在暴露的所述部分硬掩膜层进行...
该专利属于山东中科际联光电集成技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山东中科际联光电集成技术研究院有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。