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本发明提供了一种化学机械抛光系统，其包括：前端单元、多组抛光单元和多组后处理单元；所述后处理单元与所述前端单元之间的狭缝空间内配置有行走机构和翻转机构，所述翻转机构竖直承载晶圆并携带晶圆沿所述行走机构直线移动，直至移出所述狭缝空间后将晶圆翻...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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