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本发明涉及一种基板处理设备，包括：处理腔体、设置在处理腔体的顶部的第一电极、设置在第一电极之下的第二电极，第二电极包括多个开口、从第一电极延伸且延伸到第二电极的多个开口的多个凸出电极，以及相对于第二电极的基板支撑单元，基板支撑单元支撑基板。...
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