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本发明的示例性实施方案提供一种用于处理基板的装置。用于处理基板的装置包括：在其中具有处理空间的工艺腔室、用于在处理空间中支承基板的支承单元、用于向处理空间供应处理气体的气体供应单元、以及用于将微波施用到处理气体以产生等离子体的微波施用单元；...
该专利属于釜山大学校产学协力团所有，仅供学习研究参考，未经过釜山大学校产学协力团授权不得商用。

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