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本实用新型公开了一种半导体设备零部件清洗使用的超声波清洗装置，包括机体，所述机体的内部设有清洗槽，所述机体的两侧表面均设置有超声波发生器；助流机构，所述助流机构包括安装杆，所述安装杆的上表面固定连接有固定杆，所述固定杆的两侧表面均设置有飘带...
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