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一种形成图案的方法，该方法包括：在衬底上施加光致抗蚀剂底层组合物以提供光致抗蚀剂底层；在该光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将该光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从该图案化的光致抗蚀剂层转移到该光致抗蚀剂底层。该光致抗蚀剂底层组合物包括包含如本...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限责任公司授权不得商用。

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