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本申请公开了一种测试结构及测试方法，其中测试结构基于一闪存器件，所述闪存器件包括：第一金属层；第二金属层，所述第二金属层位于所述第一金属层上方；金属插塞，若干所述金属插塞形成于所述第一金属层和第二金属层之间；所述测试结构包括：内接单元，用于...
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