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封装结构及形成方法技术
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文档序号:38001443
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本发明公开了封装结构及形成方法,其中,封装结构包括:再布线结构和芯片,再布线结构具有绝缘体和嵌设于绝缘体内的若干图案化金属层,至少一图案化金属层具有布线线路和形成电感线圈的电感线路;再布线结构还包括磁性薄膜层,在再布线结构厚度方向上,磁性薄...
该专利属于江阴长电先进封装有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江阴长电先进封装有限公司授权不得商用。
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