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本发明公开了一种卷对卷磁控溅射设备，包括镀膜室；所述的镀膜室内设有支撑辊；支撑辊用于支撑柔性卷材，以形成待镀覆表面；张力调节辊；支撑辊上形成待镀覆表面的区域相对的设置有磁控溅射阴极组件，磁控溅射阴极组件包括有靶材、磁性组件、电压板；磁控溅射...
该专利属于安徽立光电子材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽立光电子材料股份有限公司授权不得商用。

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