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本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法；包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30～45份、三苯基硫鎓盐2～4份、金属团簇物8～15份、环氧乙烷10～20份、自由基光引发剂2～3份、溶剂30～40份；以对羟基苯乙烯共聚物为主体...
该专利属于吴佳敏所有，仅供学习研究参考，未经过吴佳敏授权不得商用。

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