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本发明实施例公开了一种内凹结构的图形化衬底、制备方法及LED外延片，该内凹结构的图形化衬底的制备方法包括：提供基底，在基底的表面上形成光刻胶层，并通过图形转移技术使光刻胶层形成光刻胶胶柱掩膜，其中，光刻胶胶柱掩膜远离基底的表面凹陷；根据光刻...
该专利属于广东中图半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东中图半导体科技股份有限公司授权不得商用。

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