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本发明公开了一种使用ALD氧化薄膜作为支撑层转移石墨烯的方法，包括以下步骤：S1：在铜基石墨烯的石墨烯一侧沉积一层氧化物薄膜，获得氧化物薄膜/石墨烯/铜；S2：铜面朝下置于刻蚀剂中，对铜面进行刻蚀，获得氧化物薄膜/石墨烯；S3：用沉积有电极...
该专利属于苏州微光电子融合技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州微光电子融合技术研究院有限公司授权不得商用。

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