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本发明涉及一种用于控制薄膜的原子层的射频(RF)溅射装置，更具体地涉及如下的射频溅射装置，即，在通过射频溅射装置来制备金属薄膜时，可通过由单晶铜线形成电力电缆和电源线来消除电噪声，并通过由隔振部支撑射频溅射本体和旋转泵来阻隔物理振动，从而以...
该专利属于釜山大学产学合作团所有，仅供学习研究参考，未经过釜山大学产学合作团授权不得商用。

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