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本发明提供一种可提高生产率的晶片、半导体装置及晶片的制造方法。根据实施方式,晶片包含具有第1面的硅基板和设在第1面上的氮化物半导体层。所述硅基板包含在晶片的X射线图像中能够相互区别的多个第1区域。所述多个第1区域远离所述硅基板的外缘区域。所...该专利属于东芝电子元件及存储装置株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东芝电子元件及存储装置株式会社授权不得商用。
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本发明提供一种可提高生产率的晶片、半导体装置及晶片的制造方法。根据实施方式,晶片包含具有第1面的硅基板和设在第1面上的氮化物半导体层。所述硅基板包含在晶片的X射线图像中能够相互区别的多个第1区域。所述多个第1区域远离所述硅基板的外缘区域。所...