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本发明公开了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法，具体地，公开了一种用于在多个腔室中处理基板的方法。该基板处理方法可以包括：在液体在循环管线中循环的情况下，通过用于连接循环管线和各多个腔室的供应管线对位于腔室中的基板执行液体处理，其中...
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