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提供了一种基板处理装置。该基板处理装置可以包括：具有内部空间的腔室；电极，被配置用于在内部空间中产生等离子体；以及电源单元，被配置用于向电极施加射频电压，其中电源单元可以包括：第一电源，被配置用于向电极施加具有第一频率的第一脉冲电压；第二电...
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