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本发明提供一种化学机械抛光液，包括：氧化铈颗粒，阴离子化合物，阳离子化合物，抑制剂和pH调节剂；其中所述抑制剂为非离子高分子化合物；所述化学机械抛光液对于绝缘膜相/多晶硅的抛光选择比高于100。本发明中的化学机械抛光液，能够有效保持绝缘层对...
该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

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