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随机性光致抗蚀剂厚度缺陷的预测及计量制造技术
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文档序号:37977581
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能够将半导体装置的掩模图案用作输入以使用机器学习模块来确定光致抗蚀剂厚度概率分布。例如,所述机器学习模块能够确定Z高度的概率图。此能够用于确定半导体装置的光致抗蚀剂厚度的随机性变化。能够在X方向及Y方向上的坐标处计算所述Z高度。坐标处计算所...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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