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提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置可以包括：腔室，提供执行针对基板的工艺的空间；第一喷嘴单元，布置于腔室的内部；第二喷嘴单元，布置于腔室的内部，与第一喷嘴单元相邻；远程等离子体发生器，布置于腔室的外部，将清洗气体转换为等离子体状态；公...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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