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本发明公开了一种薄膜真空计、等离子体处理设备及测量反应腔真空度的方法，所述薄膜真空计应用于等离子体处理设备中等离子体处理设备包括反应腔；包括：由外壳围成的空腔，空腔中设置有测量压力的薄膜；与空腔连通的气体通路，气体通路可以与反应腔气密连通；...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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