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本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种镀膜装置。本发明提供的镀膜装置包括箱体、基片载具、靶材和金属栅网，箱体具有真空腔体，满足镀膜的真空环境需求，基片载具用于承载待镀膜的基片，在基片载具和靶材之间设置金属栅网，金属栅网连接正极电压，靶材...
该专利属于苏州迈为科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州迈为科技股份有限公司授权不得商用。

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