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本发明涉及薄膜加工技术领域，提供了本发明提供磁控溅射蒸发双面镀膜装置及方法，该磁控溅射蒸发双面镀膜装置，至少包括：镀膜室，沿加工基材的输送方向至少串联设置两个镀膜室，每个镀膜室内均设置有镀膜导向辊、第一溅射镀膜组件、第二溅射镀膜组件以及蒸发...
该专利属于洪田科技（江苏）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洪田科技（江苏）有限公司授权不得商用。

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