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本发明提供一种定向离子束刻蚀方法，通过具有离子源、承载台及位于所述离子源与所述承载台之间且具有的贯通槽的离子射线隔离罩的定向离子束刻蚀设备，可使得所述离子源提供的所述离子射线，通过所述贯通槽作用于待刻蚀的晶圆的表面，以对所述晶圆进行刻蚀，从...
该专利属于上海新微技术研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新微技术研发中心有限公司授权不得商用。

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