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半导体存储器底层电路及制备方法技术
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文档序号:37966545
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半导体存储器底层电路及制备方法,涉及集成电路技术。本发明的半导体存储器底层电路,其特征在于,包括设置于行线层上方的列线层,行线层和列线层之间为绝缘隔离层,行线层内设置有预定数量的、由掺杂半导体材料构成的行线,列线层内设置有预定数量的、由导电...
该专利属于成都皮兆永存科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都皮兆永存科技有限公司授权不得商用。
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