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本发明公开一种溅镀靶材、其表面处理方法及靶材结构，该溅镀靶材包括工作面，工作面具有溅镀区及粗糙区。溅镀区具有第一表面粗糙度。粗糙区邻接溅镀区且具有第二表面粗糙度。第二表面粗糙度大于第一表面粗糙度，而粗糙区对应一磁力线分布的边缘。对应一磁力线...
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