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本实用新型提供了一种陶瓷套环及气相沉积设备；包括第一环以及套设在所述第一环外的第二环；所述第一环在第一端凸出外环表面设有第一凸起，所述第二环在第一端凸出内环表面设有与所述第一凸起相抵接的第二凸起；所述第一环的第一端与所述第一舟片相分离形成第...
该专利属于理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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