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本实用新型公开了一种半导体清洗使用的表面处理设备，包括箱体，所述箱体一侧对称设置有两个第一喷枪，所述箱体下端设置有收集斜板箱，所述进料仓下端设置有第二喷枪，所述第三固定板下端设置有第二电机，所述第二电机下端设置有出口。通过上述结构，收集斜板...
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