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存储器元件及其制备方法技术
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文档序号:37913965
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本申请提供一种具有多个字元线(WL)并减少泄漏的存储器元件及其制备方法。该存储器元件包括一半导体基底,其定义有一主动区并包括延伸至该半导体基底的一凹槽;以及设置在该凹槽内的一字元线,其中该字元线包括设置在该凹槽内的一绝缘层、由该绝缘层包围的...
该专利属于南亚科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过南亚科技股份有限公司授权不得商用。
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