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本发明涉及的是一种用于晶片频率腐蚀的方法及其设备，腐蚀的方法包括如下工艺步骤：一、腐蚀液的配置：二、腐蚀数量：三、腐蚀槽振动架上下运动：四、来料随机抽测晶片并由计算机自动计算该批次晶片的腐蚀时间；五、按照腐蚀时间启动腐蚀机。设备，其结构是在...
该专利属于南京德研电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京德研电子有限公司授权不得商用。

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