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本发明公开了一种应用于高纯冶金级多晶硅太阳电池的减反射膜，该减反射膜是由两层膜构成，第一层膜设在高纯冶金级多晶硅太阳电池的硅片衬底的表面，第一层膜的厚度为３５～５０ｎｍ，折射率为２．２５～２．３５；第二层膜设在第一层膜的表面，第二层膜的厚度...该专利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;常熟阿特斯阳光电力科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;常熟阿特斯阳光电力科技有限公司授权不得商用。