温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种基板处理设备，特别涉及一种在基板上沉积薄膜的基板处理设备。根据示例性实施例的基板处理设备包含多个来源气体供应单元、一气体混合单元以及一腔体。来源气体供应单元用以分别供应多个来源气体。来源气体的至少其中一者包含3
...
该专利属于周星工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。