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本发明涉及团簇束流沉积装置，具体涉及一种用于超薄膜制备的团簇束流沉积系统，包括沉积腔，沉积腔通过连管与分子泵相连，沉积腔上分别设有TFO腔接口、取样腔接口、测试腔接口、磁控溅射端口，磁控溅射端口上连接有磁控溅射枪，沉积腔内部设有扫描底座，扫...该专利属于北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）授权不得商用。