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本实用新型提供了一种等离子体增强原子层沉积成膜装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室，工艺腔室置于真空腔室内；反应腔室内置有线圈，该反应腔室的侧壁上设有多个进气口，且各进气口通过气体分流器控制进气比例；反应腔...
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