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本发明提供一种监测金属刻蚀工艺腔稳定性的方法，提供刻蚀机台，持续获取刻蚀机台刻蚀金属层时的光强信号；根据光强信号获取斜率信号；选取参考时间段，判断参考时间段中的斜率信号的值是否位于预设范围内；若是，则刻蚀机台继续工作；若否，则停止刻蚀机台并...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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